立項情況:已立項
項目資金來源:資金由項目業(yè)主負責,現(xiàn)已落實到位
項目已具備招標條件,現(xiàn)進行公開招標
黃河水電物資有限公司受招標人委托,就對下述標段進行公開招標。
2.項目概況與招標范圍
2.1項目概況
詳見招標文件。
2.2招標范圍
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序號 |
標段名稱 |
招標范圍 |
工期要求 |
交貨地點 |
信息服務費(元) |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目磁控濺射設備采購項目 |
招標范(1)主統(tǒng)、真?zhèn)渌厥褂弥覆⑻峁?)備匹配設(3)專方扳手構成設到,但容之內(nèi)2.3主 |
圍 要配置及技術 |
真空蒸鍍設備1套,主要包括基片裝置、蒸發(fā)監(jiān)控系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)及水冷系統(tǒng)等,同時及輔助設備、隨機文件、技術資料(包括操作或服務手冊),負責運輸、安裝、調(diào)試、檢驗務與質(zhì)量保證、售后服務、技術培訓等。 版、鎢舟、鉬舟、石英坩堝、晶振片、CF35圈等; 、組件和裝置如果在本供貨范圍及工作內(nèi)容中全可靠運行是必需的,也應包括在供貨范圍及 參數(shù) |
發(fā)沉積系包含設手冊、、驗收 銅墊圈、 包含外六 沒有提工作內(nèi) |
合同簽訂生效后 |
本項目位于陜西省西安長安航天基地東長安街589號 |
300 |
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序號 |
性能指標名稱 |
技術要求 |
備注 |
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1.1 |
真空鍍膜室 |
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1.1.1 |
材料及結(jié)構 |
真空室采用304不銹鋼,腔體內(nèi)壁電解拋光 |
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1.2.2 |
分子泵 |
抽氣速率不小于3000 L/s |
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1.2.3 |
機械泵 |
抽氣速率不小于25 m3/h |
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1.2.4 |
真空測量時間 |
大氣環(huán)境萬級潔凈間氛圍下從常壓抽至≤5×10-4 pa時間≤30 min; |
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1.2.4 |
極限真空測量 |
測量范圍從1×105Pa到5.0×10-5 Pa |
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1.2.4 |
真空密封 |
采用金屬密封和氟橡膠圈密封 |
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1.3 |
蒸發(fā)室基片裝置 |
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1.3.1 |
基片材料 |
導電玻璃 |
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1.3.2 |
樣品尺寸 |
400 mm×400 mm的樣品且可向下兼容更多尺寸 |
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1.3.3 |
基片托盤 |
通過電機旋轉(zhuǎn)0~30 rpm可調(diào) |
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1.4 |
蒸發(fā)源和蒸發(fā)電源 |
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1.4.1 |
蒸發(fā)源 |
配備2組金屬蒸發(fā)源和4組有機蒸發(fā)源,可兼容蒸鍍金屬、有機及無機材料;源與源之間均配有防止交叉污染的防污板 |
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1.4.2 |
金屬蒸發(fā)電源 |
配備可編程的直流穩(wěn)壓金屬蒸發(fā)電源1套,金屬蒸發(fā)電源功率≥1.5 KW及以上,最高升溫溫度可達1500℃,且通過電流控制方式,精確到0.1 A,并實現(xiàn)蒸鍍速率0.01Å/s的精度顯示,可進行電流、電壓模式的任意 切換和具有水冷控制 |
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1.4.3 |
有機蒸發(fā)電源 |
配備有機蒸發(fā)電源1套;可通過電流或PID智能溫控方式進行控制(采用電流控制方式時需精確到0.1A,并實現(xiàn)蒸鍍速率0.01Å/s的精度顯示,可進行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制;采用PID智能溫控方式時控溫精度±1℃); |
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1.4.4 |
控制系統(tǒng) |
采用PLC+PC控制方式 |
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1.4.5 |
安全保護措施 |
缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統(tǒng)檢測與保護。對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應保護措施;完善的程序互鎖,完備的防誤操作設計及保護。 |
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1.5 |
膜厚監(jiān)測系統(tǒng) |
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1.5.1 |
膜厚儀 |
不少于1組膜厚儀,不少于2套膜厚檢測探頭 |
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1.5.2 |
蒸發(fā)速率測量精度 |
0.1~0.5A/s(≤±10%),0.6~10.0A/s(≤±5%) |
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1.5.3 |
膜厚儀測量精度 |
膜厚儀測量精度優(yōu)于±0.01Å/s,若鍍膜達到設置厚度,可自動切斷電源,停止鍍膜且擋板關閉 |
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1.5.4 |
溫度控制精度 |
±1℃(RT~700℃) |
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1.5.5 |
厚度測量精度 |
優(yōu)于±1Å;具備與電源聯(lián)鎖功能 |
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1.5.6 |
片內(nèi)膜厚不均勻性 |
≤5.0%(樣品尺寸400 mm×400 mm,且在20 nm~100 nm范圍內(nèi)的薄膜材料:包括但不限于金、銀、銅、鋁、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料,且由招標方指定材料進行驗證),測試方法:薄膜有效區(qū)范圍內(nèi)3×3排列9點測量:不均勻性=(膜厚最大值-膜厚最小值)/(膜厚最大值+膜厚最小值)*100% |
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1.5.7 |
片間膜厚不均勻性 |
≤5.0%(樣品尺寸400 mm×400 mm,且在20 nm~100 nm范圍內(nèi)的薄膜材料:包括但不限于金、銀、銅、鋁、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料,且由招標方指定材料進行驗證),測試方法:薄膜有效區(qū)范圍內(nèi)3×3排列9點測量:不均勻性=(膜厚最大值-膜厚最小值)/(膜厚最大值+膜厚最小值)*100%。 |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目激光設備采購項目 |
1.6 |
自動鍍膜系統(tǒng) |
開啟后根據(jù)用戶設置的升降溫和蒸發(fā)速率參數(shù),自動升溫加熱蒸發(fā)材料,按照制定速率蒸鍍,到達設定厚度后自動關閉擋板,并降溫 |
交貨期:合同簽訂生效后90日內(nèi)整批交貨(包含備件及工具)(詳見第二卷第五章供貨要求 |
本項目位于陜西省西安長安航天基地東長安街589號 |
300 |
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1.7 |
水冷系統(tǒng) |
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1.7.1 |
冷水機 |
控溫范圍:5℃~30℃ |
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1.8 |
工藝支持 |
投標人提供C60和BCP作為鈣鈦礦器件電子傳輸層的蒸鍍工藝,保證招標方在其他薄膜層制備條件不變時采用該工藝制備電子傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池性能不低于招標方使用旋涂法制備PCBM和BCP作為電子傳輸層的性能。 |
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招標 |
范圍 要配置及技術路激光劃線 |
激、 何備 清 |
光劃線清邊設備,包括雙路激光劃線金相顯微鏡模塊以及設備所必須的安資料(包括操作手冊、使用指南、維修、調(diào)試、檢驗、驗收并提供相應的技培訓等。 激光功率測試儀、絕緣測試儀、萬用表機濾芯、除塵濾芯 參數(shù): |
清邊設 。 及工作內(nèi)在供貨范 |
備、配套輔助設服務手 內(nèi)容中沒圍及工 |
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序 |
性能指標名稱 |
要求參數(shù)值 |
備 |
注 |
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總體要求 |
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1.1 |
加工幅面 |
50 mm*50 mm~400 mm*400 mm,可根據(jù)片源大小進行調(diào)節(jié) |
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1.2 |
可加工基材厚度 |
0~40mm,軟件中輸入基材厚度后,設備自動對焦 |
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1.3 |
主體結(jié)構 |
焊接鋼結(jié)構+大理石基座,整機設備外光路采用全密封設計并配置觀察窗口,避免直射人眼 |
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納秒紅外激光系統(tǒng) |
/ |
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2.1 |
激光類型 |
1064 nm納秒紅外; |
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2.2 |
激光器功率 |
100W,軟件內(nèi)可設置 |
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2.3 |
激光器功率波動穩(wěn)定性 |
<5%RMS |
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2.4 |
激光器可調(diào)頻率范圍 |
不低于(1~1000)kHz |
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2.5 |
激光器脈寬范圍 |
不小于20 ns~200 ns,軟件內(nèi)可設置 |
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2.6 |
光束質(zhì)量M2 |
≤1.5 |
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2.7 |
最小劃線寬度 |
20um~30um |
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2.8 |
最小劃線間距 |
20um~30um |
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2.9 |
熱影響區(qū) |
單側(cè)≤5um |
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2.10 |
清邊寬度 |
≥10mm |
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2.11 |
清邊時間 |
<11min(邊長400mm,寬度10mm) |
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2.12 |
絕緣電阻 |
劃線后>2MΩ、清邊后>100MΩ |
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2.13 |
光斑整形 |
配置適用于本設備紅外激光系統(tǒng)易拆卸光學附件,具備將圓形光斑整形為方形光斑及將高斯光斑整形成平頂光斑的功能 |
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皮秒紫外激光系統(tǒng) |
/ |
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3.1 |
激光類型 |
355 nm皮秒紫外 |
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3.2 |
激光器功率 |
≥15W,軟件內(nèi)可設置 |
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3.3 |
激光器功率波動穩(wěn)定性 |
<3%RMS |
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3.4 |
激光器可調(diào)頻率范圍 |
不低于(1~1000)kHz |
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3.5 |
激光器脈寬 |
<15ps |
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3.6 |
光束質(zhì)量M2 |
<1.3 |
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3.7 |
最小劃線寬度 |
20um~30um |
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3.8 |
最小劃線間距 |
20um~30um |
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3.9 |
熱影響區(qū) |
單側(cè)≤10um |
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3.10 |
光斑整形 |
配置適用于本設備紫外激光系統(tǒng)易拆卸光學附件,具備將圓形光斑整形為方形光斑及將高斯光斑整形成平頂光斑的功能 |
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加工平臺 |
/ |
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4.1 |
電機配置 |
X軸及Y軸采用直線電機驅(qū)動,兩路激光器分別具有單獨的Z軸驅(qū)動系統(tǒng) |
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4.2 |
平臺尺寸 |
可加工最大400 mm×400 mm尺寸基材,固定方式為真空吸附,臺面采用非鋁合金耐高溫材質(zhì) |
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4.3 |
XY軸定位精度 |
≤±3μm |
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4.4 |
XY軸重復定位精度 |
≤±3μm |
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4.5 |
XY軸最大移動速度 |
≥1000mm/s |
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4.6 |
Z軸精度 |
≤±5μm |
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4.7 |
劃線平行度 |
≤±10μm/m |
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4.8 |
軌跡編輯 |
劃刻路徑可軟件內(nèi)編輯、可用CAD文件導入、可設置某段路徑激光的開關,能存儲20個以上工藝方案 |
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影像定位系統(tǒng) |
/ |
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5.1 |
CCD像素 |
≥500萬 |
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5.2 |
CCD定位精度 |
≤±2µm |
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抽塵機 |
/ |
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6.1 |
總要求 |
激光加工過程中同步吸塵 |
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6.2 |
除塵效果 |
配有多級過濾系統(tǒng),除塵效率≥99.9%(0.1~1μm灰塵顆粒) |
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6.3 |
尾氣 |
可直接接入廠務熱排風系統(tǒng) |
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/ |
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5孔物鏡轉(zhuǎn)盤,物鏡倍數(shù)為5X、10X、20X、50X、100X,雙目鏡倍數(shù)10X,瞳距可調(diào) |
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7.2載物臺 |
尺寸不小于150 mm×120 mm,移動范圍不小于70mm×50 mm,額外配備支架以保證大尺寸工件平穩(wěn)放置 |
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3 |
青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目狹縫涂布及附屬設備采購項目 |
招標范圍 備品備件:氣管、液管、管路接頭、玻璃供液罐、墊片。 專用工具:扭力扳手、公制內(nèi)六角扳手、大理石平尺、硅片取放料工具、油石。 (2)隨機文件、技術資料(包括操作手冊、使用指南、維修指南或服務手冊),負責設計、制造、試驗(包括工廠試驗、出廠試驗、交接試驗)、供貨、包裝、運輸、現(xiàn)場安裝、調(diào)試及試運行,并提供相應的技術服務與質(zhì)量保證、售后服務、技術培訓等。 (3)構成設備的任何部件、組件和裝置如果在本供貨范圍及工作內(nèi)容中沒有提到,但對該設備的安全可靠運行是必需的,也應包括在供貨范圍及工作內(nèi)容之內(nèi)。 |
合同簽訂后4個月內(nèi)完成設備到貨,并在兩周內(nèi)完成設備的調(diào)試。 |
本項目位于陜西省西安長安航天基地東長安街589號 |
300 |
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2.3主2.3.1 |
要配置及技術參狹縫涂布設備技 |
參數(shù): |
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序 |
性能指標名稱 |
要求參數(shù)值 |
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1 |
適用基材 |
透明導電玻璃、硅片等基材 |
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2 |
適用基材尺寸 |
玻璃≥400 mm×400 mm,硅片≥166 mm×166 mm |
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3 |
涂膜面積 |
玻璃有效涂膜面積≥380×380 mm,硅片需滿涂 |
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4 |
固含量 |
5-75% |
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5 |
適用基材厚度 |
玻璃:1.1~3.5 mm |
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6 |
涂布厚度 |
0.1-10μm(干膜) |
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7 |
涂布速度 |
0-100 mm/s,速度可調(diào),速度精度0.1 mm/s |
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8 |
涂布方式 |
狹縫涂布 |
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9 |
薄膜均勻性 |
片內(nèi)薄膜不均度≤5%(采用9點測試法,以上、下、左、右、中心9點為測量基準,計算方式為Ui=(Umax-Umin)/(Umax+Umin),U為膜厚),片間薄膜不均
Ui=(Uavgmax-Uavgmin)/(Uavgmax+Uavgmin),U為膜厚),玻璃背面無污染。(設備連續(xù)工作10個工作日均滿足) |
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10 |
適用溶劑體系 |
水性、油性、有機溶劑等溶劑型涂料 |
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11 |
設備配備雙龍門 |
每套龍門各配一套模頭、一套供液系統(tǒng) |
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12 |
涂硅片 |
設備可通過更換“吸附平臺、模頭”等組件的方式,切換為涂覆硅片的設備。所需的吸附平臺及模頭由廠家配齊 |
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13 |
硅片取放 |
設備配備頂升裝置,便于取放硅片 |
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14 |
預涂功能 |
設備配備預涂區(qū)域或預涂輥 |
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15 |
平移系統(tǒng) |
保證龍門或吸附平臺的平穩(wěn)移動,調(diào)平后刀頭與平臺的相對平行度<20μm |
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16 |
涂布模頭 |
采用流體仿真設計涂布模頭,刀頭直線度(R)≤3μm,粗糙度Ra≤0.025;唇口直線度(R)≤3μm,提供第三方專業(yè)檢測報告 |
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17 |
模頭數(shù)量配置 |
涂玻璃模頭配備2個,涂硅片模頭配備1個 |
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18 |
涂布模頭材質(zhì) |
不銹鋼合金,具有良好的耐腐蝕性能,可拆卸清洗,防形變 |
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19 |
模頭升降 |
模頭升降采用高精度伺服電機方式驅(qū)動;可自動調(diào)整唇口與被涂基材的間隙。涂膜高度依基板厚度自動調(diào)節(jié),可手動設置補償功能。左右兩側(cè)可自動調(diào)平(調(diào)節(jié)模頭唇口與被涂基板的平行度),自動調(diào)平后,狹縫模頭水平校準誤差精度≤±2μm |
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20 |
墊片厚度 |
0.05/0.08/0.1 mm |
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21 |
功能模塊 |
涂布模頭具有防撞、快速充液和排泡功能(快速充液和排泡功能滿足對供液泵、模頭及管路進行充液和排泡。從空模頭、空漿料罐狀態(tài)到可進行涂膜狀態(tài)之間間隔不得超過10 min) |
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22 |
基臺及材質(zhì) |
整機攜有大理石承重減震基底平臺 |
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23 |
基材測距 |
每次涂膜前,可自動檢測當前基板高度(厚度),同一片基板高度(厚度)檢測誤差≤3μm |
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24 |
注液泵 |
注液泵應能保證漿料擠出均勻連續(xù),確保涂膜一致性,其速度精度優(yōu)于0.1μl/s;供液速度在1-500μl/s,速度可調(diào);具備自動補液、補液后自動泄壓及回吸功能 |
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25 |
自動清洗模塊 |
設備具備自動清洗模頭功能,自動清洗后,必須保證無藥液殘留,管路及型腔內(nèi)部無明顯液體凝聚現(xiàn)象;設置模頭清洗區(qū)域,配備壓刀槽和排液槽,配合上述自動清洗功能和快速充液、排泡功能 |
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26 |
吸附平臺 |
表面平整度≤±5μm,平臺集成真空吸附系統(tǒng),大小可調(diào) |
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27 |
儲液罐及管路 |
需采用耐腐蝕材料,液體管路需使用半透明材質(zhì) |
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28 |
質(zhì)量保證 |
涂布過程中,需要通過程序?qū)崟r控制注液情況,以確保在涂布前端及涂布結(jié)束后,不能出現(xiàn)涂布頭滴液情況 |
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29 |
防塵和尾廢 |
設備配備防塵罩及FFU過濾系統(tǒng),內(nèi)部潔凈度保證在千級;配備三色燈及揮發(fā)溶劑排風口;機臺具有防液體潑灑特性,避免漿料侵入設備內(nèi)部,損壞內(nèi)部關鍵元器件 |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目真空蒸鍍設備采購項目 |
招標范圍 (2)備品備件:掩膜版、鎢舟、鉬舟、石英坩堝、晶振片、CF35銅墊圈、匹配設備規(guī)格的密封圈等; |
合同簽訂生效后90日內(nèi)整批交貨(包含備件及工具)(詳見第二卷第五章供貨要求) |
本項目位于陜西省西安長安航天基地東長安街589號 |
300 |
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構成設備到,但對容之內(nèi)。2.3主要 |
的任何部件該設備的安 配置及技術 |
、組件和裝置如果在本供貨范圍及工作內(nèi)容全可靠運行是必需的,也應包括在供貨范圍 參數(shù) |
中沒有提及工作內(nèi) |
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序號 |
性能指標名稱 |
技術要求 |
備注 |
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1.1 |
真空鍍膜室 |
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1.1.1 |
材料及結(jié)構 |
真空室采用304不銹鋼,腔體內(nèi)壁電解拋 |
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1.4.1 |
蒸發(fā)源 |
配備2組金屬蒸發(fā)源和4組有機蒸發(fā)源,可兼容蒸鍍金屬、有機及無機材料;源與源之間均配有防止交叉污染的防污板 |
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1.4.2 |
金屬蒸發(fā)電源 |
配備可編程的直流穩(wěn)壓金屬蒸發(fā)電源1套,金屬蒸發(fā)電源功率≥1.5 KW及以上,最高升溫溫度可達1500℃,且通過電流控制方式,精確到0.1 A,并實現(xiàn)蒸鍍速率0.01Å/s的精度顯示,可進行電流、電壓模式的任意 切換和具有水冷控制 |
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1.4.3 |
有機蒸發(fā)電源 |
配備有機蒸發(fā)電源1套;可通過電流或PID智能溫控方式進行控制(采用電流控制方式時需精確到0.1A,并實現(xiàn)蒸鍍速率0.01Å/s的精度顯示,可進行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制;采用PID智能溫控方式時控溫精度±1℃); |
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1.4.4 |
控制系統(tǒng) |
采用PLC+PC控制方式 |
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1.4.5 |
安全保護措施 |
缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統(tǒng)檢測與保護。對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應保護措施;完善的程序互鎖,完備的防誤操作設計及保護。 |
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1.5 |
膜厚監(jiān)測系統(tǒng) |
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1.5.1 |
膜厚儀 |
不少于1組膜厚儀,不少于2套膜厚檢測探頭 |
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|
1.5.2 |
蒸發(fā)速率測量精度 |
0.1~0.5A/s(≤±10%),0.6~10.0A/s(≤±5%) |
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1.5.3 |
膜厚儀測量精度 |
膜厚儀測量精度優(yōu)于±0.01Å/s,若鍍膜達到設置厚度,可自動切斷電源,停止鍍膜且擋板關閉 |
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1.5.4 |
溫度控制精度 |
±1℃(RT~700℃) |
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1.5.5 |
厚度測量精度 |
優(yōu)于±1Å;具備與電源聯(lián)鎖功能 |
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序號 |
標段名稱 |
資格要求及業(yè)績要求 |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目磁控濺射設備采購項目 |
投標人資格要求 (4)投標人近36個月內(nèi)(含,自投標截止日起往前推算)不存在騙取中標、嚴重違約及因自身的責任而使任何合同被解除的情形; 專用資格條件 業(yè)績要求 |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目激光設備采購項目 |
投標人資格要求 (4)投標人近36個月內(nèi)(含,自投標截止日起往前推算)不存在騙取中標、嚴重違約及因自身的責任而使任何合同被解除的情形; 專用資格條件 業(yè)績要求 |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目狹縫涂布及附屬設備采購項目 |
投標人基本資格要求 (4)投標人近36個月內(nèi)(含,自投標截止日起往前推算)不存在騙取中標、嚴重違約及因自身的責任而使任何合同被解除的情形; 專用資格條件 業(yè)績要求:投標人應具有近3年內(nèi)(自投標截止日往前推算,已竣工驗收時間為準)完成至少3臺及以上,加工幅面≥300 mm×300 mm的狹縫涂布設備在鈣鈦礦電池制備領域供貨業(yè)績,同時至少有1臺有效涂布幅面不小于1.2 m×0.6 m的供貨業(yè)績?!拘杼峁┖贤瑥陀〖òê贤醉?、承包范圍、簽字頁)、竣工證明(竣工驗收證明或業(yè)主出具的證明文件或其他有效證明資料)】。 |
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青海黃河上游水電開發(fā)有限責任公司太陽能電池及組件研發(fā)實驗室鈣鈦礦電池研發(fā)平臺建設項目真空蒸鍍設備采購項目 |
投標人資格要求 (4)投標人近36個月內(nèi)(含,自投標截止日起往前推算)不存在騙取中標、嚴重違約及因自身的責任而使任何合同被解除的情形; 專用資格條件 業(yè)績要求 |
4.資格后審
招標人將根據(jù)投標人提供的投標文件在評標階段對其進行資格后審,對資格審查不
合格投標人,將不進入下一階段評審,其后果由投標人自行承擔。
5.招標文件的獲取
5.1招標文件發(fā)售方式本項目實行在線售賣招標文件。
5.2招標文件發(fā)售時間2025年11月27日23:59時至2025年12月4日23:59時

